Study of silicon photomultiplier performance in external electric fields

X. L. Sun, T. Tolba, G. F. Cao, P. Lv, L. J. Wen, A. Odian, F. Vachon, A. Alamre, J. B. Albert, G. Anton, I. J. Arnquist, I. Badhrees, P. S. Barbeau, D. Beck, V. Belov, T. Bhatta, F. Bourque, J. P. Brodsky, E. Brown, T. BrunnerA. Burenkov, L. Cao, W. R. Cen, C. Chambers, S. A. Charlebois, M. Chiu, B. Cleveland, M. Coon, M. Côté, A. Craycraft, W. Cree, J. Dalmasson, T. Daniels, L. Darroch, S. J. Daugherty, J. Daughhetee, S. Delaquis, A. Der Mesrobian-Kabakian, R. Devoe, J. Dilling, Y. Y. Ding, M. J. Dolinski, A. Dragone, J. Echevers, L. Fabris, D. Fairbank, W. Fairbank, J. Farine, S. Feyzbakhsh, P. Fierlinger, R. Fontaine, D. Fudenberg, G. Gallina, G. Giacomini, R. Gornea, G. Gratta, E. V. Hansen, D. Harris, M. Heffner, E. W. Hoppe, J. Hößl, A. House, P. Hufschmidt, M. Hughes, Y. Ito, A. Iverson, A. Jamil, C. Jessiman, M. J. Jewell, X. S. Jiang, A. Karelin, L. J. Kaufman, D. Kodroff, T. Koffas, S. Kravitz, R. Krücken, A. Kuchenkov, K. S. Kumar, Y. Lan, A. Larson, D. S. Leonard, G. Li, S. Li, Z. Li, C. Licciardi, Y. H. Lin, R. Maclellan, T. Michel, M. Moe, B. Mong, D. C. Moore, K. Murray, R. J. Newby, Z. Ning, O. Njoya, F. Nolet, O. Nusair, K. Odgers, M. Oriunno, J. L. Orrell, G. S. Ortega, I. Ostrovskiy, C. T. Overman, S. Parent, A. Piepke, A. Pocar, J. F. Pratte, D. Qiu, V. Radeka, E. Raguzin, T. Rao, S. Rescia, F. Retière, A. Robinson, T. Rossignol, P. C. Rowson, N. Roy, R. Saldanha, S. Sangiorgio, S. Schmidt, J. Schneider, D. Sinclair, K. Skarpaas Viii, A. K. Soma, G. St-Hilaire, V. Stekhanov, T. Stiegler, M. Tarka, J. Todd, T. I. Totev, R. Tsang, T. Tsang, B. Veenstra, V. Veeraraghavan, G. Visser, J. L. Vuilleumier, M. Wagenpfeil, Q. Wang, J. Watkins, M. Weber, W. Wei, U. Wichoski, G. Wrede, S. X. Wu, W. H. Wu, Q. Xia, L. Yang, Y. R. Yen, O. Zeldovich, J. Zhao, Y. Zhou, T. Ziegler

Research output: Contribution to journalArticlepeer-review

5 Scopus citations

Fingerprint

Dive into the research topics of 'Study of silicon photomultiplier performance in external electric fields'. Together they form a unique fingerprint.

Engineering

Chemical Engineering