Complementary surface charge for enhanced capacitive deionization

X. Gao, S. Porada, A. Omosebi, K. L. Liu, P. M. Biesheuvel, J. Landon

Producción científica: Articlerevisión exhaustiva

205 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Complementary surface charge for enhanced capacitive deionization'. En conjunto forman una huella única.

Engineering

Material Science

Chemical Engineering