Huella
Profundice en los temas de investigación de 'Lateral heating of SiO 2/Si: Interfacial Si structure change causing tunneling current reduction'. En conjunto forman una huella única.- Clasificar por
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Lateral heating of SiO 2/Si: Interfacial Si structure change causing tunneling current reduction
Zhi Chen, Pang Leen Ong, Yichun Wang, Lei Han
Producción científica: Article › revisión exhaustiva
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Citas
(Scopus)